《硅片弯曲度测试方法(GB/T 6619-2009)》修改采用SEMI MF534—0706《硅片弯曲度测试方法》。本标准与SEMI MF534—0706相比,主要变化如下:本标准接触式测量方法格式按GB/T 1.1格式编排;本标准根据我国实际生产情况增加了非接触式测量方法。本标准代替GB/T 6619—1995《硅片弯曲度测试方法》。本标准与GB/T 6619—1995相比,主要有如下变动:扩大了可测量硅片范围为直径不小于25 mm,厚度为不小于180 μm,直径和厚度比值不大于250的圆形硅片;增加了引用文件、术语、意义用途、测量环境条件和干扰因素等章节;修改了仪器校正的内容。
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