《硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法(GB/T 25188-2010)》由中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局,中国国家标准化管理委员会发布。《硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法(GB/T 25188-2010)》由全国微束分析标准化技术委员会提出并归口。本标准起草单位:中国科学院化学研究所、中国计量科学研究院。本标准起草人:刘芬、王海、赵良仲、宋小平、赵志娟、邱丽美。
硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法(GB/T 25188-2010) EPUB, PDF, TXT, AZW3, MOBI, FB2, DjVu, Kindle电子书免费下载。