硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法(GB/T 19444-2004)
- 作者
- 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
- 出版社
- 中国标准出版社 版次：第1版
- 出品方
- 北京劲松建达科技图书有限公司
- 语言
- 简体中文
- 页数
- 2页
- 装帧
- 平装
- ISBN
- 155066120772
- 重量
- 9 g
- 尺寸
- 29.6 x 21 x 0.1 cm
- 电子书格式
- epub,pdf,txt,azw3,mobi,fb2,djvu
- 下载次数
- 4103
- 更新日期
- 2023-08-27
《硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法(GB/T 19444-2004)》中的例子：1.制记录表格。记录内容有硅片规格、编号、热处理前氧含量、热处理后氧含量、差值、差值的平均值以及热处理条件、工艺等。2.按照GB／T 14143或GB／T 1557测量未经热处理的硅片样品间隙氧含量，称为原始氧含量。3.硅片样品热处理4.热处理前硅片样品用清洗液、高纯水进行清洗。5.本标准规定两种热处理工艺流程，A种工艺和B种工艺。
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